在半导体材料和器件的研究和生产中经常要使用各种具有易燃易爆、剧毒、腐蚀性的特种气体，磷烷（PH3）便是其中一种典型。在半导体制造中，这种气体需通过磷烷特气柜等特气系统设备输送供气，参与到制程工艺中，主要用作半导体外延材料的生长源，在气相外延（VPE）、金属有机物气相外延（MOVPE）等广泛应用。
磷烷的气体性质：
磷烷（PH3）：是一种无色、剧毒、易燃气体，磷化氢按照高毒性且自燃的气体处理，一般以液化压缩气体储存于气体钢瓶内。
磷烷（PH3）是一种人体吸收相当快的剧毒气体，主要由呼吸道吸入中毒，吸入人体会对心脏、呼吸系统、肾、肠胃、神经系统和肝脏造成影响，空气中浓度若达到1390mg/m3，会使人迅速死亡。对吸入中毒者应立即将中毒者移至新鲜空气处，更换污染衣服，用水冲洗皮肤。
磷烷（PH3）主要用于硅外延的掺杂剂，磷扩散的杂质源，同时也常用于其他一些半导体工艺中，如扩散、离子注入、多晶及非晶硅化学气相淀积、外延GaP材料、化合物半导体的MOCVD工艺等。
磷烷特气柜的作用：
磷烷特气柜是电子特气系统中一种专为易燃易爆、腐蚀性、毒性等危险性气体供应而设计的特气设备，基本功能有自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断等，可以保证磷烷（PH3）在半导体制造中的用气安全和气体纯度及提供稳定的气体压力。
